图1 B40优化平衡结构图
纸质出版日期:2020-09-25,
收稿日期:2019-06-27
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新型非碳纳米结构的研究一直广受关注。因零维硼元素富勒烯笼状结构B40的实验合成,以及新型的硼富勒烯可能具有类似于碳富勒烯(如C60)一样重要的学术价值和应用前景,关于B40更进一步的功能化应用研究变得十分必要。采用第一原理,文章开展了过渡金属元素Ni对硼富勒烯B40进行表面化学吸附及笼内封装的功能化应用研究。计算结果表明,无论Ni原子在B40表面吸附还是笼内封装,均可与B40表面的B原子相结合形成Ni‒B键,对应形成不同的稳定的金属富勒烯复合结构。且, Ni原子掺杂B40所形成的金属富勒烯复合产物结合能约5.18 ~ 7.12 eV/atom, 表明Ni原子与B40的表面吸附和笼内封装属于化学作用过程,所形成的金属富勒烯复合产物具有较高的稳定性。对金属富勒烯复合产物的电子特性和磁性进行计算,发现:Ni原子表面吸附和内嵌的金属富勒烯复合结构,由于Ni原子的掺杂引入,其能隙相对于全硼富勒烯B40均有一定程度的减小;同时,磁性Ni原子与全硼富勒烯作用后,通过轨道电子的转移,Ni原子磁性完全消失而B40富勒烯笼内的B原子不产生自旋极化,因而金属富勒烯的总磁矩均为零。这种通过Ni的掺杂可调整富勒烯分子结构能隙又同时保持整个体系的磁矩为零的电子特点,对于此类金属富勒烯作为半导体分子器件的应用非常有意义。
We performed systematically spin-polarized density functional calculations to study the structural configurations, electronic and magnetic properties of the single Ni doped endohedral Ni@B40 and exohedral Ni‒B40 metallofullerene complexes. The results revealed different stable configurations of the Ni‒doped metallofullerenes depending on the positions of the doped Ni atoms. The calculated binding energies of all the considered Ni‒doped metallofullerenes are ranged from 5.18 to 7.12 eV/atom, which indicates the chemical interactions between the doped‒Ni atom and the B atom of B40. Thus we conclude that a single Ni atom can be chemically adsorbed on the surface or encapsulated in the hollow cage of B40 to form stable Ni‒doped metallofullerenes. By introducing dopant states, the energy gap of the Ni‒doped metallofullerenes has been partly reduced, due to the local distortions and charge transfer. As a consequence of the high hybridization and confinement effect, the hybrid Ni‒doped metallofullerene complexes have an attractive characteristic of the magnetic properties: nonmagnetic complexes systems with the inherent magnetic moments of the Ni atom completely disappeared, whether the Ni adsorbed on the surface of B40 or encapsulated in the cage. These fascinating findings of the tunable electronic and magnetic properties of the Ni‒doped B40 metallofullerenes imply that this type of metallofullerenes may be a promising candidate for electronic devices, especially expected to be applicable as a single molecular device.
因信息技术飞速发展的需要,传统的微电子器件正朝高度微型化、集成化的纳米器件方向发展。低维纳米材料在纳米电子器件、纳米光电器件、纳米分子器件和高密度非挥发性存储器件等领域具有巨大的应用前景。因此,发展新型低维纳米材料成为纳米材料学和纳米电子学领域最新兴和前沿的研究热点。人们通过各种理论和实验探索合成了更多、更具优越性能的新型功能材料与纳米器件。受碳纳米材料重要应用的启发,关于非碳纳米材料性能的研究和新型非碳纳米结构的探索一直是研究的热点领域。因硼在元素周期表中与碳“最近邻”,对硼纳米管和零维硼团簇的研究得到了尤为广泛的关注,科学家试图得到类似于碳家族的更具优越性能的丰富的低维硼家族纳米材料,并在最近取得了很大的突破[
本文通过第一原理计算系统研究了过渡金属元素Ni对全硼富勒烯B40的外表面化学吸附及笼内内嵌封装的功能化应用。首先,根据文献中提出的硼富勒烯B40的原子排布方式,构造了B40富勒烯的笼状结构。然后,采用Ni原子对该全硼富勒烯结构分别进行外表面化学吸附和笼内内嵌封装,并进一步计算了Ni掺杂后的金属富勒烯结构、稳定性、电子特性和磁学性质。计算结果表明,优化后的Ni掺杂B40金属富勒烯复合结构的平衡构型整体保持完好,吸附Ni原子与B40表面的B原子结合形成Ni-B键,吸附位附近区域B-B键的键长被拉长。Ni原子在B40外表面吸附和笼内封装均具有较大的结合能(5.18 ~ 7.12 eV/atom)。从能量观点来看,Ni原子外表面化学吸附的金属富勒烯的稳定性高于Ni原子内嵌封装的金属富勒烯的稳定性。对金属富勒烯复合产物的电子特性和磁性计算表明,对于所有的Ni原子掺杂的金属富勒烯复合结构,其能隙相对于全硼富勒烯B40,均有一定程度的减小;同时,磁性元素Ni原子与全硼富勒烯作用后,磁性原子Ni掺杂的金属富勒烯复合结构的总磁矩均为零。这种可调磁性并能同时调整材料电子能隙的性能特点,对于此类金属富勒烯在半导体分子器件方面的应用提供了理论支持和依据,具有重要的学术价值。
本文采用基于密度泛函理论的第一原理计算软件包SIESTA进行计算[
首先,根据文献中对新型硼富勒烯B40结构特点和对称性的讨论[
图1 B40优化平衡结构图
Fig.1 The side view and top view of the optimized configuration of the pristine B40
我们选取了多个不同的对称位点作为Ni原子的外表面吸附位和内部封装位,并对这些初始结构进行充分的几何结构优化和能量弛豫。计算结果表明,单个Ni原子能够稳定地停留在B40的不同位置并进而形成相应的Ni掺杂B40金属富勒烯。根据掺杂方式(外表面化学吸附和笼内内嵌封装)的不同,对应形成的Ni掺杂金属富勒烯分为两类:(1)单个Ni原子吸附于B40的外表面所形成的金属富勒烯产物,按照传统金属富勒烯的标记方式记为“Ni-B40”金属富勒烯;(2)单个Ni原子笼内封装于B40的内嵌金属富勒烯产物,记为“Ni@B40”金属富勒烯。另外,考虑吸附位置硼原子的排布情况,为了区别同一类金属富勒烯吸附位不同,我们作了更进一步的标记,比如“Ni-B40-6in”,表示Ni原子在B40富勒烯的表面外侧吸附且吸附位于表面B原子六元环中心内侧。
计算结果表明,对于Ni原子笼内封装的内嵌金属富勒烯,Ni原子有三种稳定的内嵌位置点,分别是B40表面六元环中心内侧、七元环中心内侧以及B原子交织双链交叠处中心内部。对应Ni@B40金属富勒烯复合产物分别命名为:Ni@B40-6in、Ni@B40-7in和Ni@B40-IDC金属富勒烯。对于Ni原子外表面吸附于B40所形成的金属富勒烯,Ni原子有两种稳定的吸附位置点,分别是B40表面六元环中心外侧、七元环中心外侧,对应的Ni-B40金属富勒烯复合产物分别命名为Ni-B40-6out和Ni-B40-7out。优化后的平衡构型如
图2 结构优化后的Ni掺杂的B40金属富勒烯复合产物的平衡结构图(粉红色代表B原子,灰色代表Ni原子)
Fig.2 The top view and side view of the optimized configurations of the five stable Ni-adsorbed and encapsulated B40 metallofullerenes (the pink for B and the gray for Ni)
由
其他四种Ni掺杂的金属富勒烯结构参数如
Ni-position | Ni@B40-IDC | Ni@B40-6in | Ni-B40-6out | Ni@B40-7in | Ni-B40-7out |
---|---|---|---|---|---|
Ni-B/nm | 0.229 | 0.224 | 0.200 | 0.215 | 0.203 |
B-B键伸长/% | 1.17 | 1.80 | 6.15 | 2.43 | 4.86 |
Eb /eV | 5.40 | 5.18 | 6.44 | 5.28 | 7.12 |
Eb=EB40+ENi-ENi-B40 | (1) |
其中,EB40指硼富勒烯B40的总能,ENi指单个Ni原子的总能,ENi-B40 指Ni原子化学吸附或笼内封装的Ni掺杂金属富勒烯的总能。每种结构的结合能如
值得注意的是,所有Ni原子外表面化学吸附和笼内封装的金属富勒烯复合结构的结合能都很大,远大于Ni原子与B80相互作用的结合能约3 ~ 4 eV[
我们计算了上述五种Ni掺杂B40的金属富勒烯复合结构的电子结构。定义金属富勒烯笼状结构电子能隙∆Egap为最低未占据分子轨道(lowest unoccupied molecular orbital)与最高占据分子轨道(highest occupied molecular orbital)之差,具体表达式为:
∆Egap=ELUMO-EHOMO | (2) |
其中,EHOMO、ELUMO分别为最高占据分子轨道和最低未占据分子轨道的能级,计算结果如
为了进一步分析Ni掺杂的金属富勒烯复合结构能隙变化的原因,我们计算了B40和Ni原子掺杂后的金属富勒烯费米能级附近最高占据分子轨道(HOMO)和最低未占据分子轨道的能级(LUMO)的原子和量子轨道。
图3 B40和Ni原子外表面吸附和笼内封装的金属富勒烯的自旋极化投影态密度
Fig.3 The density of states (DOS) and spin polarized projected density of states (PDOS) of the B40 and the Ni-doped metallofullerenes under study
(a. B40; b. Ni@B40-IDC; c. Ni@B40-6in; d. Ni-B40-6out; e. Ni@B40-7in; f. Ni-B40-7out)
Ni是典型的磁性元素。在接下来的讨论中,我们通过自旋极化计算开展了对Ni 原子掺杂B40的外表面吸附和笼内内嵌封装金属富勒烯复合产物Ni-B40和Ni@B40的磁学性质讨论。所得单个Ni原子和金属富勒烯复合结构的总磁矩,如
Ni-position | M/μB | Spin up | Spin down | Charge Transfer |e| /Ni | ||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
4s | 3d | 4p | 4s | 3d | 4p | |||
Ni atom | 2.00 | 1.00 | 5.00 | — | 1.00 | 3.00 | — | — |
Ni@B40-IDC | 0.00 | 0.18 | 4.21 | 0.33 | 0.18 | 4.21 | 0.33 | 0.61 |
Ni@B40-6in | 0.00 | 0.17 | 4.21 | 0.31 | 0.17 | 4.21 | 0.31 | 0.62 |
Ni-B40-6out | 0.00 | 0.35 | 4.17 | 0.41 | 0.35 | 4.17 | 0.41 | 0.15 |
Ni@B40-7in | 0.00 | 0.21 | 4.20 | 0.31 | 0.21 | 4.20 | 0.31 | 0.57 |
Ni-B40-7out | 0.00 | 0.39 | 4.15 | 0.37 | 0.39 | 4.15 | 0.37 | 0.19 |
本文开展了过渡金属元素Ni对全硼富勒烯B40的外表面化学吸附及笼内内嵌封装的功能化应用研究。计算结果表明,优化后的外来掺杂Ni原子易于与B40表面的B原子结合形成Ni-B键;同时,吸附位的 B-B键的键长被拉伸从而引起了明显的局部变形。Ni原子在B40外表面吸附和笼内封装均具有很高的结合能(5.18 ~ 7.12 eV/atom),说明Ni原子易于与B40发生表面的化学吸附和笼内内嵌封装。能量计算表明,Ni原子外表面化学吸附的金属富勒烯的稳定性高于Ni原子内嵌封装的金属富勒烯的稳定性。对金属富勒烯复合产物的电子特性和磁性计算表明,对于所有的Ni原子掺杂的金属富勒烯复合结构,其能隙相对于全硼富勒烯B40,均有一定程度的减小;磁性元素Ni原子与全硼富勒烯作用后,金属富勒烯复合产物的总磁矩均为零。这种通过外来原子掺杂硼富勒烯B40可调整材料电子能隙和磁学性质的特性,对于此类金属富勒烯在半导体分子器件方面的应用提供了重要思路和理论指导。
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