化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究

陈如麒; 翁嘉文; 劳媚媚; 徐军; 朱贵文

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究

研究论文 | 更新时间：2023-12-11

- 化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究
- Structural and Electrical Properties of Fe-doped LaNiO₃Thin Film by Sol-gel Method
- 中山大学学报(自然科学版)(中英文) 2012年51卷第3期页码：60-62
- 作者机构：
  
  1. ．华南农业大学公共基础课实验教学中心,广东,广州,510642
  2. 华南农业大学理学院,广东,广州,510642
  3. 广东药学院物理与电子学教研室,广东,广州,510006
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版日期：2012，
  
  网络出版日期：2012-5-25，
扫描看全文
陈如麒, 翁嘉文, 劳媚媚, 等. 化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究[J]. 中山大学学报(自然科学版)(中英文), 2012,51(3):60-62.

CHEN Ruqi, WENG Jiawen, LAO Meimei, et al. Structural and Electrical Properties of Fe-doped LaNiO₃Thin Film by Sol-gel Method[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunYatseni, 2012,51(3):60-62.
陈如麒, 翁嘉文, 劳媚媚, 等. 化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究[J]. 中山大学学报(自然科学版)(中英文), 2012,51(3):60-62. DOI：

CHEN Ruqi, WENG Jiawen, LAO Meimei, et al. Structural and Electrical Properties of Fe-doped LaNiO₃Thin Film by Sol-gel Method[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunYatseni, 2012,51(3):60-62. DOI：

摘要

采用化学溶液沉积法，在（100）取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧（LaNi

1-x

LNFeO-x）薄膜，研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明，经700 ℃ 1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构，没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密，没有微裂痕出现。随着铁含量的增加，薄膜电阻率由1.7 mΩ·cm 增加到 3.9 mΩ·cm。

Abstract

1-x

NiO

(LNFeO-x)thin films were prepared on (100) Si substrates by a chemical solution deposition method (CSD). Their structure and room temperature resitivity were analyzed. X-ray diffraction show that the thin films annealed at 700 ℃ for 1 h were grown in perovskite structure and no secondary phase was detected. The thin films were smooth

density and crack-free. The room temperature resistivity increases from 1.7 Ω·cm to 3.9 Ω·cm as x increases from 0 to 0.15.

关键词

LaNi1-xFexO3LNFeO-x化学溶液沉积法CSD

Keywords

La1-xFexNiO3LNFeO-xchemical solution deposition methodCSD

references

浏览量

406

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

化学溶液沉积法制备Pb_0.5Ba_0.5TiO₃薄膜的结构及电学性能研究

化学溶液沉积法制备BiFeO₃薄膜的结构及性能研究